化學機械研磨中鑽石修整器磨耗之研究
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A04020179
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 廖運炫 趙弘文
- 主題與關鍵字：
- 化學機械研磨 鑽石修整器 隆起率 Chemical mechanical polishing CMP Diamond conditioner Uphill ratio
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:254 民93.05
- 頁次:頁139-147
- 日期：
- 20040500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
