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不同粉徑Al-Si-Cu靶長時間使用後濺鍍薄膜之特性研究
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後設資料
資料識別:
A04016911
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳楷林 溫志中 陳泓政 賴明雄 邱思議 鄭楚丕
主題與關鍵字:
濺鍍靶材 薄膜表面型態 薄膜電阻 Sputtering target Al-Si-Cu Surface morphology Resistance Target orientation
描述:
來源期刊:粉末冶金會刊
卷期:29:2 民93.05
頁次:頁105-110
日期:
20040500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳楷林 溫志中 陳泓政 賴明雄 邱思議 鄭楚丕(20040500)。[不同粉徑Al-Si-Cu靶長時間使用後濺鍍薄膜之特性研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/d5/39.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/d5/39.html
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