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五氧化二鉭光學薄膜微觀結構與沉積能量之關係
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後設資料
資料識別:
A04016901
資料類型:
期刊論文
著作者:
黃承揚(Huang, Chen-yang) 朱正煒(Chu, Cheng-wei)
主題與關鍵字:
微觀結構 電子槍蒸鍍 離子輔助系統 反應磁控濺鍍 離子束濺鍍 Microstructure Evaporation Ion assisted deposition Magnetron reactive sputtering Ion beam sputtering
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:16:4 民93.04
頁次:頁28-35
日期:
20040400
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
黃承揚(Huang, Chen-yang) 朱正煒(Chu, Cheng-wei)(20040400)。[五氧化二鉭光學薄膜微觀結構與沉積能量之關係]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/d5/2f.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/d5/2f.html
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