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射頻磁控濺鍍法製備Ni/Al[feaf]O[feb0]陶金薄膜及其特性分析
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後設資料
資料識別:
A04016900
資料類型:
期刊論文
著作者:
戴成奇 邱國峰
主題與關鍵字:
射頻磁控濺鍍 Ni/Al[feaf]O[feb0]陶金薄膜 靶材 鎳/二氧化鋁陶金薄膜
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:16:4 民93.04
頁次:頁23-27
日期:
20040400
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
戴成奇 邱國峰(20040400)。[射頻磁控濺鍍法製備Ni/Al[feaf]O[feb0]陶金薄膜及其特性分析]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/d5/2e.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/d5/2e.html
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