Ⅲ-Ⅴ晶圓背面蝕刻技術簡介
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- 資料識別：
- A04015699
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 方宏聲 劉品均 陳裕豐
- 主題與關鍵字：
- 盲孔蝕刻 感應隅合蝕刻機 反應性離子蝕刻機 Via hold etching ICP etcher RIE etcher
- 描述：
- 來源期刊:機械工程
- 卷期:249 民93.06
- 頁次:頁19-26
- 日期：
- 20040600
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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