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以磁控濺射法濺鍍二氧化矽薄膜表面粒徑之研究
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後設資料
資料識別:
A04011157
資料類型:
期刊論文
著作者:
黃承揚 朱正煒
主題與關鍵字:
磁控濺射 粒徑控制 粗糙指數 自仿射分形生長 Magnetron sputtering Particle size control Roughness exponent Self affine surfaces growth
描述:
來源期刊:工業材料
卷期:209 民93.05
頁次:頁113-121
日期:
20040500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
黃承揚 朱正煒(20040500)。[以磁控濺射法濺鍍二氧化矽薄膜表面粒徑之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/be/e0.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/be/e0.html
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