電漿粒子與物理薄膜沉積的關聯與發展
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- 資料識別：
- A04011152
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 溫志中
- 主題與關鍵字：
- 電漿 物理薄膜沉積 濺鍍 離子輔助薄膜沉積 薄膜 Plasma Physical vapor deposition Sputtering Ion-Assisted deposition Thin film
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:209 民93.05
- 頁次:頁77-83
- 日期：
- 20040500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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