化學氣相沉積配位化合物:基本物性控制與合成策略

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資料識別:
A03006969
資料類型:
期刊論文
著作者:
黃淑芬(Huang, Shu-fen) 季昀(Chi, Yun)
主題與關鍵字:
化學氣相沉積 金屬薄膜 多元金屬氧化物 配位化合物 Chemical vapor deposition Thin film Organometallic Coordination compounds Semiconductor technology
描述:
來源期刊:化學
卷期:61:1 民92.03
頁次:頁39-47
日期:
20030300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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