奈米晶界高介電積體化薄膜電容之研究

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A03005926
資料類型:
期刊論文
著作者:
許清淵(Sheu, C. I.) 張宏宜(Chang, H. Y.) 鄭世裕(Cheng, S. Y.)
主題與關鍵字:
奈米晶界 晶介氧化驅入 GBBL Nano-grain boundary Grain boundary laryer Complex impedance
描述:
來源期刊:材料科學與工程
卷期:35:1 民92.03
頁次:頁58-63
日期:
20030300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

鄭和時代印度洋情勢與中國的關係
常見泌尿系統疾病之中西醫診治
行動數位生活技術研發計畫成果與展望
十七個灰樹花菌株遺傳多樣性的ISSR...
人類幹細胞研究的法議題
UVB輻射誘發老鼠角質層細胞株氧化壓...