控制電漿位置以成長類鑽奈米尖錐

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資料識別:
A03005921
資料類型:
期刊論文
著作者:
林啟瑞(Lin, C. R.) 周上智(Chou, S. C.) 洪新欽(Hung, H. C.) 許庭瑋(Hsu, T. W.)
主題與關鍵字:
電漿鞘 類鑽碳尖錐 電位降 微波電漿化學氣相沉積 Microwave plasma chemical vapor deposition Plasma sheath Diamond-like carbontip Potential drop
描述:
來源期刊:材料科學與工程
卷期:35:1 民92.03
頁次:頁31-35
日期:
20030300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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