美國智慧財產權法最新發展與評析（2000∼2003）
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- 資料識別：
- A03046675
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 孫遠釗(Sun， Andy Y.)
- 主題與關鍵字：
- 著作權 商標權 專利權 相對短期保護法則 存續期間 合理使用 指甲縮影 轉型度 編輯著作權 技術保護措施 美國憲法專利暨著作權條款 積極抗辯 商品裝飾 商標稀釋 識別性 第二涵意 馬德里議定書 侵權 均等論 等同侵權 專利申請過程禁反言 權利要求或範圍 彈性阻卻 完全阻卻 可預見性 週邊考量 置換性 書面陳述要件 實驗性使用 拜杜法案詢 Rule of shorter term Thumbnail Transformative Patent and copyright clause Affirmative defense Trade dress Trademark dilution Distinctiveness Secondary meaning Madrid protocol Infringement Doctrine of equivalent Prosecution history estoppels Patent claims Flexible bar Complete bar Foreseeability Tangentialness Interchangeability Written description Experimental use Bayh-dole act
- 描述：
- 來源期刊:政大智慧財產評論
- 卷期:1:1 民92.10
- 頁次:頁143-214
- 日期：
- 20031000
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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- 管理單位：知識服務組-期刊
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