採用電子束微影的近接效應來製作矽的奈米線結構

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資料識別:
A03045981
資料類型:
期刊論文
著作者:
胡淑芬 翁文慶 宋金龍 翁偉哲 萬裕民
主題與關鍵字:
電子束微影 近接效應 矽奈米線 單電子電晶體 量子點 Electron-beam lithography Proximity effect Si nanowire Single-electron transistor Quantum dot
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:10:4 民92.11
頁次:頁27-30
日期:
20031100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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