光柵在氮化矽薄膜上的應用
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- 資料識別：
- A03002351
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張育誠 柯育甫 李鼎昌 李建階 張正陽 紀國鐘
- 主題與關鍵字：
- 電漿輔助化學氣相沉積 氮化矽 薄膜 濕式蝕刻 光柵 PECVD SiN[febb] Membrane Wet etching Grating
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:193 民92.01
- 頁次:頁171-174
- 日期：
- 20030100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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