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多孔性二氧化矽薄膜之電漿處理研究
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後設資料
資料識別:
A03002309
資料類型:
期刊論文
著作者:
魏大欽 楊忠諺 李益維 巫盛堯
主題與關鍵字:
介電常數 水氣吸附 電漿改質 多孔二氧化矽 Dielectric constant Moisture uptake Plasma treatment Porous silica
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:10:1 民92.02
頁次:頁14-19
日期:
20030200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
魏大欽 楊忠諺 李益維 巫盛堯(20030200)。[多孔性二氧化矽薄膜之電漿處理研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/67/78.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/67/78.html
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