多層底部抗反射層應用於高數值孔徑與修正型照明之曝光系統
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- 資料識別：
- A03026079
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 范萬達 陳學禮 王子建 謝忠益
- 主題與關鍵字：
- ArF與F[feaf]準分子雷射微影術 底部抗反射層 高數值孔徑 修正型照明 ArF and F[feaf]excimer laser microlithography Bottom anti-reflective coating High numerical aperture Modified illumination
- 描述：
- 來源期刊:奈米通訊
- 卷期:10:3 民92.08
- 頁次:頁13-19
- 日期：
- 20030800
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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