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物理氣相沈積截面型態之數值模擬
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資料識別:
A03026059
資料類型:
期刊論文
著作者:
蔡名詔(Tsai, M. J.) 翁睿哲(Weng, R. J.) 張瓊丹(Chang, C. D.) 黃文星(Hwang, W. S.)
主題與關鍵字:
物理氣相沈積 薄膜型態 鍍膜模擬 Physical vapor deposition Thin film morphology Film deposition simulation
描述:
來源期刊:材料科學與工程
卷期:35:3 民92.09
頁次:頁146-152
日期:
20030900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
蔡名詔(Tsai, M. J.) 翁睿哲(Weng, R. J.) 張瓊丹(Chang, C. D.) 黃文星(Hwang, W. S.)(20030900)。[物理氣相沈積截面型態之數值模擬]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/56/cc.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/56/cc.html
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