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SF[feb8]-O[feaf]氣體的非等向性矽蝕刻技術
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後設資料
資料識別:
A03025229
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳秀香(Chen, Hsiu-hsiang)
主題與關鍵字:
乾蝕刻 非等向性 黑色矽 Dry etching Anisotropic Black silicon
描述:
來源期刊:光學工程
卷期:83 民92.09
頁次:頁73-78
日期:
20030900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳秀香(Chen, Hsiu-hsiang)(20030900)。[SF[feb8]-O[feaf]氣體的非等向性矽蝕刻技術]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/53/8f.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/53/8f.html
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