簡介下世代微影技術與奈米轉印微影技術
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- 資料識別：
- A03024508
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 鄭瑞庭 蔡宏營 林熙翔 蘇建彰 陳建洋
- 主題與關鍵字：
- 下世代微影技術 表面成像微影技術 限角度散射投影式電子束微影術 極短紫外光微影術 奈米轉印微影術 步進光感成形式奈米轉印 墨水式奈米轉印 雷射成形式直接奈米轉印 NGL Next generation lithography TSI Top-surface imaging SCALPEL Scattering with angular imitation projection electron-beam lithography EUV Exterme ultravilolent lithography NIL Nanoimprint lithography Step and flash imprint lithography Soft lithograhy Laser assisted direct imprint LADI
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:245 民92.08
- 頁次:頁106-116
- 日期：
- 20030800
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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