銅被覆晶圓之化學機械拋光理論與實驗探討
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- 資料識別：
- A03023631
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 蔡志成 劉大中 蔡明蒔
- 主題與關鍵字：
- 銅被覆晶圓 化學機械拋光 IC製程 CMP
- 描述：
- 來源期刊:機械月刊
- 卷期:29:7=336 民92.07
- 頁次:頁78-90
- 日期：
- 20030700
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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