感應耦合電漿離子蝕刻製程應用於光通訊元件之開發研究
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- 資料識別：
- A03001491
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 胡一君(Hu， Yi-chiuen) 林郁欣(Lin， Yu-hsin) 殷宏林(Yin， Hung-ling) 林暉雄(Lin， Hui-ysiung) 周曉宇(Chou， Hsiao-yu)
- 主題與關鍵字：
- 感應耦合電漿離子 蝕刻製程 光通訊元件
- 描述：
- 來源期刊:科儀新知
- 卷期:24:4=132 民92.02
- 頁次:頁54-62
- 日期：
- 20030200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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