首頁
部落格
Facebook專頁
ENGLISH
珍藏特展
目錄導覽
技術體驗
成果網站資源
目錄導覽首頁
HOTKEY快速導覽
內容主題
典藏機構
進階搜尋
資源聯盟
首頁
目錄導覽
內容主題
新聞
國圖館藏期刊
首頁
目錄導覽
典藏機構與計畫
國家圖書館
國家圖書館期刊報紙典藏數位化計畫
Detection of Gate-Oxide Integrity in Plasma Etching Process with Differential Amplifier Circuit Design
推薦分享
資源連結
連結到原始資料
(您即將開啟新視窗離開本站)
後設資料
資料識別:
A03017003
資料類型:
期刊論文
著作者:
王木俊(Wang, Mu-chun) 蔡政村(Tsai, Cheng-tsun) 陳厚銘(Chen, Hou-ming) 廖御傑(Liau, Yu-jie)
主題與關鍵字:
氧化層 電漿製程 損傷 可靠度 天線 差動放大器 Oxide Plasma process Damage Reliability Antenna Differential amplifier
描述:
來源期刊:暨大學報
卷期:7:1 民92.06
頁次:頁155-168
日期:
20030600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
王木俊(Wang, Mu-chun) 蔡政村(Tsai, Cheng-tsun) 陳厚銘(Chen, Hou-ming) 廖御傑(Liau, Yu-jie)(20030600)。[Detection of Gate-Oxide Integrity in Plasma Etching Process with Differential Amplifier Circuit Design]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/2f/83.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/2f/83.html
評分與驗證
請為這筆數位資源評分
感謝您為這筆數位資源評分,為了讓資料更容易被檢索利用,請選擇和這項數位資源相關的詞彙:
差動放大器
天線
請填入更適合的關鍵詞
推薦藏品
微結構分析技術之介紹
臺灣新文學史(6)--寫實文學與批判...
酸性離子液體觸媒在煉油及石化工業之應...
人類幹細胞研究的法議題
UVB輻射誘發老鼠角質層細胞株氧化壓...
利用免疫細胞吞噬活性為快速篩檢平臺評...