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A Powerful and Sensitive Gauge for Plasma-Process-Induced Damage in Differential Amplifier Circuit Design
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資料識別:
A03016025
資料類型:
期刊論文
著作者:
王木俊(Wang, Mu-chun) 陳厚銘(Chen, Hou-ming) 蔡政村(Tsai, Cheng-tsun) 洪進華(Hong, Jin-hua)
主題與關鍵字:
電漿製程 損傷 氧化層 可靠度 天線 差動放大器 Plasma process Damage Oxide Reliability Antenna Differential amplifier
描述:
來源期刊:大葉學報
卷期:12:1 民92.06
頁次:頁37-41
日期:
20030600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
王木俊(Wang, Mu-chun) 陳厚銘(Chen, Hou-ming) 蔡政村(Tsai, Cheng-tsun) 洪進華(Hong, Jin-hua)(20030600)。[A Powerful and Sensitive Gauge for Plasma-Process-Induced Damage in Differential Amplifier Circuit Design]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/2b/bb.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/2b/bb.html
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