奈米製造技術的新契機--奈米轉印微影術及其設備發展現況

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資料識別:
A03013575
資料類型:
期刊論文
著作者:
林家弘 許嘉峻
主題與關鍵字:
奈米轉印微影術 奈米製造技術 線寬 Nanoimprint lithography NIL Nano fabrication technique Linewidth
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:243 民92.06
頁次:頁130-141
日期:
20030600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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