淺溝渠元件隔離技術現況與挑戰
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- 資料識別：
- A03013551
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 蔡明蒔
- 主題與關鍵字：
- 淺溝渠隔離技術 固定式砥粒研磨 化學機械研磨 高選擇比研漿 Shallow trench isolation Fixed abrasive polishing Direct CMP High selectivity slurry
- 描述：
- 來源期刊:奈米通訊
- 卷期:10:2 民92.05
- 頁次:頁43-48
- 日期：
- 20030500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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