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厚膜光阻微影系統簡介
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後設資料
資料識別:
A03013550
資料類型:
期刊論文
著作者:
丁志華 蔡來福 陳建光
主題與關鍵字:
厚膜光阻微影 光罩對準曝光系統 光阻塗佈顯影系統 近接式曝光 雙面對準 楔形誤差補償前端 關蓋旋塗技術 反放射滴液法 Thick-photoresist lithography Mask Aligner Track Proximity printing Double-side alignment Wedge error compensation head WEC Closed cover spin GYRSET technology Reverse radial dispense RRD
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:10:2 民92.05
頁次:頁30-42
日期:
20030500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
丁志華 蔡來福 陳建光(20030500)。[厚膜光阻微影系統簡介]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/21/fc.html(2017/03/24瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/21/fc.html
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