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新穎的X-ray曝光技術在低介電常數薄膜直接圖形化之研究
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資料識別:
A03013546
資料類型:
期刊論文
著作者:
劉柏村 張鼎張 蔡宗鳴 陳紀文 許鉦宗 曾俊元
主題與關鍵字:
X-射線 直接圖形化 低介電常數材料 X-ray Direct patterning Low-k Hydrogen silsesquioxane HSQ Hybrid-organic-siloxane-polymer HOSP
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:10:2 民92.05
頁次:頁5-12
日期:
20030500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
劉柏村 張鼎張 蔡宗鳴 陳紀文 許鉦宗 曾俊元(20030500)。[新穎的X-ray曝光技術在低介電常數薄膜直接圖形化之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/21/f8.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/21/f8.html
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