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低溫液相沉積含氟二元氧化矽技術
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資料識別:
A03012305
資料類型:
期刊論文
著作者:
江世明 梁沐旺
主題與關鍵字:
液相沉積 二氧化矽 六氟矽酸 Liquid phase deposition Silicon dioxide Hydrofluosilicic acid
描述:
來源期刊:機械工程
卷期:246 民92.06
頁次:頁29-36
日期:
20030600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
江世明 梁沐旺(20030600)。[低溫液相沉積含氟二元氧化矽技術]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/1d/3b.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/4a/1d/3b.html
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