電漿技術於III-V製程設備的應用--薄膜沉積篇
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A03012303
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張加強
- 主題與關鍵字：
- 三-五族 電漿加速化學氣沉積 沉積設備 電漿 III-V PECVD Deposition equipment Plasma
- 描述：
- 來源期刊:機械工程
- 卷期:246 民92.06
- 頁次:頁17-22
- 日期：
- 20030600
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
