銅在化學-機械拋光電解液中之電化學性質研究
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- 資料識別：
- A03010925
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 林秀如(Lin， Shiou-ru) 陳瑞琴(Chen， Jui-chin) 蔡文達(Tsai， Wen-ta)
- 主題與關鍵字：
- 銅 電化學行為 雙氧水 化學-機械拋光 Copper Electrochemical behavior Hydrogen peroxide Chemical-mechanical polishing(CMP)
- 描述：
- 來源期刊:防蝕工程
- 卷期:17:2 民92.06
- 頁次:頁103-112
- 日期：
- 20030600
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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