ISE TCAD軟體於PMOS奈米元件製程之模擬應用
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- 資料識別：
- A02007702
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 黃恆盛(Huang， Heng-sheng) 方仁宏(Fang， Jen-hung) 陳宜鋒(Chen， Yi-feng)
- 主題與關鍵字：
- 有效通道長度 ISE TCAD L□ Effective channel length Halo Imp. Halo implant Ge Imp. Germanium implant
- 描述：
- 來源期刊:臺北科技大學學報
- 卷期:35:1 民91.03
- 頁次:頁17-25
- 日期：
- 20020300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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