IC製程用193nm光阻劑之製備及微影性質研究
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- 資料識別：
- A02006796
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 柯正達(Ko， Jeng-dar) 傅士奇(Fu， Shih-chi) 謝國煌(Hsieh， Kuo-huang)
- 主題與關鍵字：
- 化學增幅型光阻劑 193nm微影術 壓克力樹脂 脫水反應動力 多環系樹脂 CAMP 193nm lithography Methacrylate Kinetics of dehydration Cycloolefin
- 描述：
- 來源期刊:國立臺灣大學工程學刊
- 卷期:84 民91.02
- 頁次:頁67-83
- 日期：
- 20020200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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