在底層電極上以常溫成長氮化鋁薄膜之研究
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A02005997
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 黃靜茹(Hwang， J. L.) 黃興祿(Huang， H. L.) 陳亮斌(Chen， L. B.) 謝光宇(Hsieh， K. Y.)
- 主題與關鍵字：
- 磁控濺渡 氮化鋁 柱狀結構 Magnetron sputtering AlN Column structure
- 描述：
- 來源期刊:材料科學與工程
- 卷期:34:1 民91.03
- 頁次:頁55-60
- 日期：
- 20020300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
