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Growth and Dielectric Properties of Pb(ScTa)[fec5]Ti戓O[feb0](PSTT) Thin Films by MOCVD Method
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後設資料
資料識別:
A02004810
資料類型:
期刊論文
著作者:
Lin,Chun-hsiung Friddle,Philip A. Ma,Cheng-hsin Chen,Haydn
主題與關鍵字:
PSTT relaxor ferroelectric MOCVD Thin films Dielectric properties
描述:
來源期刊:Tamkang Journal of Science and Engineering
卷期:5:1 民91.03
頁次:頁1-6
日期:
20020300
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
Lin,Chun-hsiung Friddle,Philip A. Ma,Cheng-hsin Chen,Haydn(20020300)。[Growth and Dielectric Properties of Pb(ScTa)[fec5]Ti戓O[feb0](PSTT) Thin Films by MOCVD Method]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/ff/d0.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/ff/d0.html
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