氧化層厚度在矽晶元件上之研究
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- 資料識別：
- A02039166
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- Tan，Uan-kang
- 主題與關鍵字：
- Oxide Deposition Cluster APCVD PECVD LPCVD 氧化 沉積 簇群 常壓化學氣相沉積 電漿化學氣相沉積 低壓化學氣相沉積
- 描述：
- 來源期刊:光武學報
- 卷期:25 民91.03
- 頁次:頁621-634
- 日期：
- 20020300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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