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直流式磁控濺鍍系統鍍製鋯及鋯基氮化物薄膜之探討
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後設資料
資料識別:
A02035926
資料類型:
期刊論文
著作者:
楊恆傑(Yang, Heng-ghieh) 劉全璞(Liu, Chuan-pu)
主題與關鍵字:
測鍍系統 擴散阻障層 鋯 氮化鋯 鉭 氮化鉭 Sputtering system Diffusion barrier Zr ZrN Ta TaNx
描述:
來源期刊:鑛冶
卷期:46:4=180 民91.12
頁次:頁137-142
日期:
20021200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
楊恆傑(Yang, Heng-ghieh) 劉全璞(Liu, Chuan-pu)(20021200)。[直流式磁控濺鍍系統鍍製鋯及鋯基氮化物薄膜之探討]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/d7/f8.html(2017/03/24瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/d7/f8.html
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