比較CF[feb2]/C[feaf]H[feaf]及CF[feb2]/C[feaf]H[feb8]電漿製備低介電材料氟化非晶碳膜之研究
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A02035170
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 魏大欽 楊忠諺 劉志宏 游清彥
- 主題與關鍵字：
- 電漿 氟化非晶碳膜 化學氣相沉積法
- 描述：
- 來源期刊:奈米通訊
- 卷期:9:4 民91.11
- 頁次:頁33-37
- 日期：
- 20021100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
