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奈米孔洞二氧化矽超低介電薄膜的電漿鍛燒及改質
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後設資料
資料識別:
A02035169
資料類型:
期刊論文
著作者:
卓恩宗 蔡增光 楊家銘 吳柏偉 潘扶民 趙桂蓉
主題與關鍵字:
奈米孔洞二氧化矽薄膜 電漿鍛燒
描述:
來源期刊:奈米通訊
卷期:9:4 民91.11
頁次:頁26-32
日期:
20021100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
卓恩宗 蔡增光 楊家銘 吳柏偉 潘扶民 趙桂蓉(20021100)。[奈米孔洞二氧化矽超低介電薄膜的電漿鍛燒及改質]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/d4/ea.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/d4/ea.html
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