高密度電漿蝕刻應用於850nm面射型雷射之製程與特性研究
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- 資料識別：
- A02029707
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 蔣承忠(Chiang， C. C.) 李逸駿(Li， Y. C.) 胡飛名(Wu， F. M.) 貢中元 洪瑞華(Horng， R. H.) 武東星(Wuu， D. S.)
- 主題與關鍵字：
- 電漿蝕刻 垂直共振腔面射型發光雷射 VCSEL
- 描述：
- 來源期刊:真空科技
- 卷期:15:4 民91.11
- 頁次:頁17-24
- 日期：
- 20021100
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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