濺鍍用靶材之製造方法介紹

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A02027580
資料類型:
期刊論文
著作者:
謝榮淵(Hsieh, Rong-iuan)
主題與關鍵字:
濺鍍靶材 純度 晶粒大小 優選結晶方向 Sputtering target Purity Grain size Preferred orientation
描述:
來源期刊:技術與訓練
卷期:27:4=215 民91.08
頁次:頁135-145
日期:
20020800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

試介李勤岸、胡民祥、莊柏林、路寒袖、...
中國古代飲食名著(上)
石化工業區廢水處理廠放流水與冷卻水回...
Vitrectomy without...
鉻磷酸鹽處理麻竹之保綠機制
臺灣地區麻雀糞便內寄生蟲種類之分析