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射頻磁控濺鍍氧化鎳薄膜電性及光性之研究
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後設資料
資料識別:
A02026081
資料類型:
期刊論文
著作者:
盧陽明(Lu, Y. M.) 楊哲勛(Yang, J. S.) 黃文星(Hwang, W. S.) 莊鑫堅(Chuang, H. C.)
主題與關鍵字:
氧化鎳 透明導電薄膜 電阻率 濺鍍法 NiO Transparent conducting thin film Electrical resistivity Sputtering
描述:
來源期刊:材料科學與工程
卷期:34:2 民91.06
頁次:頁79-84
日期:
20020600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
盧陽明(Lu, Y. M.) 楊哲勛(Yang, J. S.) 黃文星(Hwang, W. S.) 莊鑫堅(Chuang, H. C.)(20020600)。[射頻磁控濺鍍氧化鎳薄膜電性及光性之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/ad/9c.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/ad/9c.html
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