由電壓對電流現象決定磷化銦鎵/砷化鎵HBT之射極平臺蝕刻終點

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資料識別:
A02025702
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳力民 廖森茂 蘇炎坤 魏上欽 王俊凱 王瑞祿 陳文章
主題與關鍵字:
磷化銦鎵/砷化鎵 蝕刻 HBT
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:15:3 民91.09
頁次:頁51-53
日期:
20020900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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