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閘極氧化層製程發展新趨勢
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後設資料
資料識別:
A02020052
資料類型:
期刊論文
著作者:
姚俊敏
主題與關鍵字:
閘極氧化層製程 半導體製程
描述:
來源期刊:電子月刊
卷期:8:9=86 民91.09
頁次:頁142-154
日期:
20020900
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
姚俊敏(20020900)。[閘極氧化層製程發展新趨勢]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/96/15.html(2024/09/14瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/49/96/15.html
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