CMP中修整參數對拋光墊特性影響之研究
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- 資料識別：
- A02020020
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 左培倫 何碩洋
- 主題與關鍵字：
- 拋光墊 化學機械拋光 半導體製程 CMP
- 描述：
- 來源期刊:機械月刊
- 卷期:28:9=326 民91.09
- 頁次:頁38-53
- 日期：
- 20020900
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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