CMP製程中鑽石修整器概論
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- 資料識別：
- A02009917
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 洪珮文 楊琦婷 廖運炫
- 主題與關鍵字：
- 化學機械研磨 研磨墊 修整 鑽石修整器 Chemical mechanical polishing Pad Dressing Diamond dresser
- 描述：
- 來源期刊:機械工業
- 卷期:230 民91.05
- 頁次:頁114-121
- 日期：
- 20020500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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