磁控濺鍍電漿製程之表面處理設備

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資料識別:
A08087645
資料類型:
期刊論文
著作者:
張凱傑 謝志男 楊濟華 李國義
主題與關鍵字:
磁控濺鍍 電漿表面處理設備 物理氣相沉積設備 批次處理設備 捲式處理設備 Magnetron sputtering Plasma surface treatment equipment PVD Physical vapor deposition Batch type Roll to roll type or web coater
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:304 2008.07[民97.07]
頁次:頁82-90
日期:
20080700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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