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準分子雷射退火矽膜之凝固速率研究與分析
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後設資料
資料識別:
A08070759
資料類型:
期刊論文
著作者:
郭啟全(Kuo, Chil-chyuan)
主題與關鍵字:
凝固速率 準分子雷射退火 矽膜 Solidification velocity Excimer laser crystallization Silicon thin films
描述:
來源期刊:建國科大學報
卷期:27:4 2008.07[民97.07]
頁次:頁13-29
日期:
20080700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
郭啟全(Kuo, Chil-chyuan)(20080700)。[準分子雷射退火矽膜之凝固速率研究與分析]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/3c/c0/df.html(2024/09/16瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/3c/c0/df.html
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