次世代微影技術發展現況雙重曝影製作技術(DPT)與極紫外光(EUV)
推薦分享
資源連結
連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)後設資料
- 資料識別：
- A08040805
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 謝政憲 邱燦賓 徐仲偉
- 主題與關鍵字：
- 浸潤式 微影技術 雙重曝影 設計圖案分拆技術 極紫外光 Immersion Lithography Double patterning Pattern split technology EUV
- 描述：
- 來源期刊:電子月刊
- 卷期:14:3=152 2008.03[民97.03]
- 頁次:頁122-140
- 日期：
- 20080300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
授權聯絡窗口
- 管理單位：知識服務組-期刊
聯絡E-mail：nclper@ncl.edu.tw
電話：02-23619132轉305
