氧化劑對銅／鉭電偶於化學-機械拋光下之加凡尼行為的影響
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- 資料識別：
- A08037645
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 潘思蓉(Pan， Szu-jung) 陳瑞琴(Chen， Jui-chin) 蔡文達(Tsai， Wen-ta)
- 主題與關鍵字：
- 加凡尼電流 化學機械拋光 氧化劑 銅 鉭 Galvanic current Chemical-mechanical polishing CMP Oxidizer Copper Tantalum
- 描述：
- 來源期刊:防蝕工程
- 卷期:21:4 2007.12[民96.12]
- 頁次:頁307-313
- 日期：
- 20071200
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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