準分子退火矽膜之再結晶機制研究
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- 資料識別：
- A08036944
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 郭啟全(Kuo， C. C.)
- 主題與關鍵字：
- 準分子雷射退火 線上光學檢測 非晶矽膜 再結晶機制 多晶矽 Excimer laser annealing Real-time optical measurements Amorphous silicon thin films Recrystallization mechanism Polycrystalline silicon
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:257 2008.05[民97.05]
- 頁次:頁206-214
- 日期：
- 20080500
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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