Nitrogen Effect on the Diamond Deposition Processing by 915-MHz Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Reactor

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資料識別:
A08017475
資料類型:
期刊論文
著作者:
蔡宏營(Tsai, Hung-yin) 郭桂林(Kuo, Kei-lin)
主題與關鍵字:
Microwave plasma enhanced Chemical vapor deposition Diamond deposition Nitrogen effect 微波電漿輔助化學氣相法 鑽石薄膜 氮濃度效應
描述:
來源期刊:中國機械工程學刊
卷期:28:2 2007.04[民96.04]
頁次:頁157-162
日期:
20070400
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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